SiO₂ (二氧化硅)

SiO₂ (二氧化硅)

通量范围：200~2,500nm
熔点：1,700~1,800℃
蒸发温度：1,800~2,200℃
密度：>2.2g/cm2
应用：多层保护膜

所属分类：

AR镀膜

附件：

立即咨询

关键词：

PROCAM

为您提供优质的产品，为您的选择做好准备

提交留言